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江西漢可泛半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
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HAC-201

HAC-201型年產(chǎn)250MW非晶硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽電池用全自動熱絲CVD非晶硅薄膜生長線

● 基本功能：

每小時4000片166硅片，最大可兼容210硅片；配套其它國產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)線設(shè)備可實現(xiàn) 量產(chǎn)平均電池效率>24.5%。

● 運(yùn)行性能穩(wěn)定、維護(hù)簡易、成本低：

設(shè)備免維護(hù)周期長。~30天維護(hù)保養(yǎng)一次。無需每天刻蝕清洗載板和腔體。
自制熱絲耗材，承諾長期平價供應(yīng)。
鍍膜氣壓低、氣耗低。相比PECVD粉塵大幅度減少、用氣成本降低。
立式結(jié)構(gòu)：可有效避免鍍膜產(chǎn)生的粉塵顆粒污染表面，提高連續(xù)生產(chǎn)太陽電池填充因子和良品率。
自動化與載板協(xié)調(diào)同步設(shè)計。減少設(shè)備宕機(jī)，減少設(shè)備維護(hù)難度和備件庫存；減少設(shè)備備件維修成本。

● 鍍膜質(zhì)量好，無等離子對界面的損傷。

全部產(chǎn)品

每小時4000片166硅片，最大可兼容210硅片；配套其它國產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)線設(shè)備可實現(xiàn)量產(chǎn)平均電池效率>24.5%。

每小時8000片166硅片，最大可兼容210硅片；配套其它國產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)線設(shè)備可實現(xiàn)量產(chǎn)平均電池效率>24.5%。

非標(biāo)定制設(shè)備，主要用于在單晶硅片上采用熱絲CVD方式鍍制非晶硅p層、非晶硅i層、非晶硅n層；采用磁控濺射（PVD）方式鍍制TCO薄膜。

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按照每GW節(jié)省1億元的投資成本，現(xiàn)在異質(zhì)結(jié)投資的規(guī)劃多在10GW以上，項目投資可節(jié)省10億元人民幣以上，熱絲CVD很可能在短期內(nèi)成為CVD技術(shù)的主流。
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